一种半导体研磨废水处理装置
授权
摘要

本实用新型涉及废水处理装置技术领域,公开了一种半导体研磨废水处理装置,包括壳体,壳体上连通有进水管和投料管,所述壳体内设置有间隔分布的第一隔板和第二隔板,第一隔板和第二隔板将壳体内分为搅拌室和压滤室,所述第一隔板固定安装有连通搅拌室和压滤室的带有阀门的连通管。与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:能够对废水进行挤压,从而使废水进行流动、震荡,进而使得废水能够充分与化学药剂反应,有效提高废水处理的效果,能够对废水施加压力,从而使得废水能够进行多重过滤,进而对废水中不同大小的颗粒进行过滤,提高了废水的过滤效果,且过滤部件可拆卸,降低清洗及更换的难度,有利于使用。

基本信息
专利标题 :
一种半导体研磨废水处理装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202220578391.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2022-03-17
授权号 :
CN216337048U
授权日 :
2022-04-19
发明人 :
向晟
申请人 :
深圳市芯愚公半导体有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市龙华区民治街道民泰社区星河盛世A1-A6栋A3栋1单元611
代理机构 :
深圳汉林汇融知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
王淼
优先权 :
CN202220578391.5
主分类号 :
C02F9/04
IPC分类号 :
C02F9/04  B01F31/441  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F9/00
水、废水或污水的多级处理
C02F9/04
至少有一个化学处理步骤
法律状态
2022-04-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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