一种电子束蒸发观察窗镜片支架装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种电子束蒸发观察窗镜片支架装置,其技术方案是:包括遮板,所述遮板中部表面开设有通槽,所述通槽内顶部设有上支架,所述通槽内底部设有下支架,所述遮板底部一侧固定嵌设有壳体,所述壳体内设有调节机构,所述调节机构包括转杆与蜗杆,所述转杆贯穿壳体一端且与壳体转动连接,所述转杆位于壳体外的一端固定连接有调节钮,一种电子束蒸发观察窗镜片支架装置的有益效果是:本实用新型通过设置调节机构,使用者可以旋转调节钮,带动转杆与第一锥齿轮旋转,从而带动第二锥齿轮与连接杆旋转,同时带动蜗杆旋转,蜗杆带动传动齿轮旋转,推动齿条上升,从而通过活动销带动下支架进行上升,进行高度调节。
基本信息
专利标题 :
一种电子束蒸发观察窗镜片支架装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202121896084.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-08-13
授权号 :
CN216237246U
授权日 :
2022-04-08
发明人 :
马溢华赵志强
申请人 :
无锡芯谱半导体科技有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市会西路30-34(无锡光电新材料科技园内)
代理机构 :
北京中政联科专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
何磊
优先权 :
CN202121896084.3
主分类号 :
C23C14/30
IPC分类号 :
C23C14/30 C23C14/52
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
C23C14/30
电子轰击法
法律状态
2022-04-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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