光学镜片镀膜电子束蒸发装置
授权
摘要

本实用新型公开了光学镜片镀膜电子束蒸发装置,包括壳体和溢水槽,且镀膜槽的内部设置有镀膜坩埚,所述镀膜槽的上下两端皆开设有第二固定槽,所述镀膜坩埚的上下两端皆开设有第一固定槽,所述壳体的右侧焊接有水箱,且水箱右侧的顶端安装有计量泵,所述水箱顶端的右侧开设有进水口,所述壳体背面的顶端安装有水泵。本实用新型通通过液体流量控制器对水的水压和流速进行严格的控制,避免因水流造成镀膜失败,便于用户对镀膜坩埚随时更换,不影响工作操作,实用性高,节约水资源,避免批量工作造成大量的水资源浪费,且节约工作成本,间接性的提高效益。

基本信息
专利标题 :
光学镜片镀膜电子束蒸发装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921711408.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-14
授权号 :
CN210438826U
授权日 :
2020-05-01
发明人 :
李祥孙波
申请人 :
贵阳鑫昶睿光电技术有限公司
申请人地址 :
贵州省贵阳市乌当区东风镇界牌村二组
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201921711408.4
主分类号 :
C23C14/30
IPC分类号 :
C23C14/30  C23C14/54  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
C23C14/30
电子轰击法
法律状态
2020-05-01 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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