本实用新型公开了一种E‑Beam电子束蒸发镀膜装置，涉及到电子束蒸镀技术领域，包括真空箱，真空箱的内腔底部固定连接有定位组件，真空箱的内腔顶部固定连接有位于定位组件正上方的基板支架，定位组件包括托板、转盘和驱动箱，托板的外侧壁开设有多个呈环形阵列分布的限位滑槽，限位滑槽的内腔活动插接有与限位滑槽相适配的限位滑杆，限位滑杆的一端固定连接有弧形夹板。本实用新型通过在托板的外侧壁开设有多个呈环形阵列分布的限位滑槽，限位滑杆的一端固定连接有弧形夹板，因此限位滑杆在限位滑槽的内腔滑动时能够带动弧形夹板移动，从而确保多个弧形夹板能够对放置在托板上表面的坩埚进行夹紧定位。