开放式电子束蒸发源

专利权的终止

摘要

本实用新型提供了一种用于镀膜生产中的开放式电子束蒸发源，包括水冷底板，装在水冷底板上的水冷枪体，装在水冷枪体上的扫描线圈组件，位于扫描线圈组件空间中且装在水冷底板上的带阴极灯丝的电子枪发射体，位于电子枪发射体相邻处装在水冷底板上的永磁钢、分流板，装在水冷枪体上的至少三级通过永磁场产生洛伦兹力使自由电子偏转至少270度的磁极。聚焦效果好，磁场强度稳定，束斑形状好。

基本信息

专利标题：

开放式电子束蒸发源

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200720081574.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2007-10-22

授权号：

CN201102982Y

授权日：

2008-08-20

发明人：

薛尚清张博赵玉清朱克志魏杨谢亮

申请人：

成都南光机器有限公司西安交通大学

申请人地址：

610100四川省成都市经济技术开发区星光西路115号成都南光机器有限公司

代理机构：

成都立信专利事务所有限公司

代理人：

江晓萍

优先权：

CN200720081574.1

主分类号：

C23C14/30

IPC分类号：

C23C14/30

IPC结构图谱

C部——化学；冶金

C23

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制

C23C

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆

C23C14/00

通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆

C23C14/22

以镀覆工艺为特征的

C23C14/24

真空蒸发

C23C14/28

波能法或粒子辐射法

C23C14/30

电子轰击法

法律状态

2016-12-07 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101691186297
IPC(主分类) : C23C 14/30
专利号 : ZL2007200815741
申请日 : 20071022
授权公告日 : 20080820
终止日期 : 20151022

2008-08-20 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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