一种高通量电子束组合材料蒸发系统
授权
摘要

本实用新型涉及真空镀膜系统领域,公开了一种高通量电子束组合材料蒸发系统。该高通量电子束组合材料蒸发系统包括:真空腔体,所述真空腔体设置为真空;电子束蒸发装置,设置于所述真空腔体下部;基片托架,设置于所述真空腔体上部,用于放置基片;连续掩膜装置和/或分立掩膜装置,设置于所述真空腔体上部,位于所述基片托架和所述电子束蒸发装置之间。本实用新型的高通量电子束组合材料蒸发系统,实现了高通量材料样品的制备,大大提高了组合材料样品的制备效率。

基本信息
专利标题 :
一种高通量电子束组合材料蒸发系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921276030.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-08-07
授权号 :
CN210287496U
授权日 :
2020-04-10
发明人 :
余应明郭鸿杰鲁森钱
申请人 :
宁波星河材料科技有限公司
申请人地址 :
浙江省宁波市宁波高新区宁波新材料创新中心东区1幢1号10-4-1
代理机构 :
上海一平知识产权代理有限公司
代理人 :
徐迅
优先权 :
CN201921276030.X
主分类号 :
C23C14/30
IPC分类号 :
C23C14/30  C23C14/04  C23C14/50  C23C14/54  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
C23C14/30
电子轰击法
法律状态
2020-04-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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