一种晶圆厚度测量系统
授权
摘要

本实用新型提供了一种晶圆厚度测量系统,包括测量平台、固定于测量平台上的支架和安装在支架上的千分表,测量平台上活动安装有测量盘,测量盘远离测量平台的一侧开设有十字形吸附槽和多个环形吸附槽,多个环形吸附槽呈同心圆设置且与十字形吸附槽连通,测量盘于十字形吸附槽的交叉点开设有吸附孔,吸附孔连通有真空吸附管,真空吸附管远离吸附孔的一端连通有真空发生器。当技术人员使用该系统测量晶圆的厚度时,能够有效降低测量时的人为误差,同时也能够提高测量晶圆的工作效率。

基本信息
专利标题 :
一种晶圆厚度测量系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122082155.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-08-31
授权号 :
CN216620926U
授权日 :
2022-05-27
发明人 :
简益升娄中华王丹李洋
申请人 :
威科赛乐微电子股份有限公司
申请人地址 :
重庆市万州区万州经开区高峰园檬子中路2号
代理机构 :
广州市华学知识产权代理有限公司
代理人 :
黄宗波
优先权 :
CN202122082155.2
主分类号 :
G01B5/06
IPC分类号 :
G01B5/06  G01B5/00  G01B3/18  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B5/00
以采用机械方法为特征的计量设备
G01B5/02
用于计量长度、宽度或厚度
G01B5/06
用于计量厚度
法律状态
2022-05-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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