一种钙钛矿器件蒸镀设备
授权
摘要

本实用新型公开了一种钙钛矿器件蒸镀设备,包括蒸镀腔体,所述蒸镀腔体内设有用于对基片进行蒸镀的多个蒸镀机构和用于带动基片经过多个所述蒸镀机构的流转机构,所述流转机构为往复传送机构,所述往复传送机构传送基片往复经过多个所述蒸镀机构。通过将流转机构设置为往复传送机构,流转机构可带动较大尺寸的基片往复扫描式蒸镀,实现大尺寸钙钛矿器件的蒸镀,流转机构可依次传送多片基片经过蒸镀机构进行蒸镀,实现钙钛矿器件的批量蒸镀。

基本信息
专利标题 :
一种钙钛矿器件蒸镀设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122404358.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-09-30
授权号 :
CN216192659U
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
黄稳高永喜胡淳徐飞武启飞
申请人 :
苏州方昇光电股份有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城中北区23幢214室
代理机构 :
苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张荣
优先权 :
CN202122404358.9
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24  C23C14/50  C23C14/12  C23C14/14  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-04-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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