一种双面精磨装置
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摘要

一种双面精磨装置,包括底板,底板的两端均设有内推机构,内推机构均设有精磨机构,内推机构用于调节精磨机构之间的间距,以使精磨机构对晶圆盘的端面进行精磨,内推机构包括安装于底板端部的内推底板,内推底板上壁两端均安装有内推轴承座,位于外侧的内推轴承座安装有内推电机,内推电机的输出轴连接有内推丝杆,内推丝杆设有内推座,内推座设有一对内推板,内推板均穿于位于内侧的内推轴承座,内推板的内侧端设有内推端板。本实用新型在进行晶圆盘加工时,方便同时对晶圆盘的两端进行精磨操作,提高了晶圆盘打磨的效率,同时方便进行打磨盘的更换,从而方便对晶圆盘实施不同程度的打磨操作,具有较强的实用性。

基本信息
专利标题 :
一种双面精磨装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122590145.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-10-27
授权号 :
CN216179075U
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
周汉知冯永李健儿
申请人 :
四川绿然科技集团有限责任公司
申请人地址 :
四川省遂宁市射洪县经济开发区河东大道88号
代理机构 :
成都诚中致达专利代理有限公司
代理人 :
曹宇杰
优先权 :
CN202122590145.X
主分类号 :
B24B7/20
IPC分类号 :
B24B7/20  B24B7/17  B24B27/00  B24B45/00  B24B47/22  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B7/00
适用于磨削工件平面的机床或装置,包括抛光平面玻璃表面;及其附件
B24B7/20
以被磨非金属制品的材料性质为特征专门设计的
法律状态
2022-04-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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