一种真空烧结装置
授权
摘要

本实用新型提供一种真空烧结装置,旨在解决现有的真空烧结系统中,往往对烧结环境的洁净度和真空度要求不高,导致烧结制品产生夹杂,纯度不够,不能用于超高真空的环境,且烧结件烧结过程仅通过高温加热或气体加压使其发生固相反应,烧结制品致密度不是很好的问题,包括作为安装基体的台架,所述台架上通过固定架安装有用于烧结件烧结的真空炉体,真空炉体的前侧设有炉门,且真空炉体的炉腔内设有用于烧结件成型的模具,且模具通过支撑平台悬置于真空炉体的炉腔内,模具的外侧设有用于快速加热烧结的电加热件。本实用新型尤其适用于高致密度烧结件的烧结成型,具有较高的社会使用价值和应用前景。

基本信息
专利标题 :
一种真空烧结装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122705014.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-05
授权号 :
CN216205169U
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
马诚杰
申请人 :
仪晟科学仪器(嘉兴)有限公司
申请人地址 :
浙江省嘉兴市南湖区亚太路906号(中科院三期)17号楼2楼203室
代理机构 :
杭州衡峰知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
陈修伟
优先权 :
CN202122705014.1
主分类号 :
F27B5/05
IPC分类号 :
F27B5/05  F27B5/06  F27B5/18  F27D17/00  
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F27
炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B5/00
马弗炉;干馏炉;其他炉料完全隔绝的炉
F27B5/04
适用于在真空中或特殊气氛中处理炉料的
F27B5/05
在真空中
法律状态
2022-04-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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