双向交替真空镀膜装置
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摘要

双向交替真空镀膜装置,包括对称设置的机架,所述的机架设置于底座上,底座的两侧对称设有与真空装置配合的滑道,机架上设有安装架,安装架上设有相互配合的卷收结构,底座上设有相互配合的热源蒸镀装置,对称设置的机架之间依次设有第一导向辊、相互配合的第一张紧辊、第二导向辊、第一贴合辊、第一定位辊、第二定位辊、第三导向辊、配合辊、相互配合的第二张紧辊和第二贴合辊。采用上述结构,通过双卷收结构配合,轮转工作,往复运行,反复蒸镀正反两面,蒸镀更加均匀,提升了加工质量;避免传统蒸镀方式蒸镀后频繁装卸的问题,可自动多次反复蒸镀,进一步提升了加工效率;整个装置结构合理,便于操作使用,实用性强。

基本信息
专利标题 :
双向交替真空镀膜装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122861921.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-19
授权号 :
CN216427389U
授权日 :
2022-05-03
发明人 :
张要枫高峰赵冬梅
申请人 :
湖北钛时代新能源有限公司
申请人地址 :
湖北省宜昌市枝江市白洋镇五峰民族工业园
代理机构 :
宜昌市三峡专利事务所
代理人 :
成钢
优先权 :
CN202122861921.5
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24  C23C14/56  C23C14/20  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-05-03 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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