一种电子铜箔生产用电镀装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种电子铜箔生产用电镀装置,包括电镀池,所述电镀池一侧固定设置有电机,所述电机输出轴端部传动连接有第一转轴,所述电镀池两侧分别贯穿设置有第二转轴以及第三转轴,所述第一转轴外侧设置有第一拨动板,所述第二转轴外侧设置有第二拨动板,所述第三转轴外侧设置有第三拨动板,所述第一转轴、第二转轴以及第三转轴之间连接有传动机构。通过电机驱动第一拨动板、第二拨动板以及第三拨动板转动使得电镀池内的电解质溶液形成流动的液体,加速镀层金属阳离子的流动速率,从而可快速的向铜箔周围补充镀层金属阳离子,进而可有效地提高铜箔的电镀效率。

基本信息
专利标题 :
一种电子铜箔生产用电镀装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122988983.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-01
授权号 :
CN216338022U
授权日 :
2022-04-19
发明人 :
杨文峰
申请人 :
烟台晨煜电子有限公司
申请人地址 :
山东省烟台市招远市金岭镇二大路道南健德路西
代理机构 :
宁波海曙甬睿专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
何卓倩
优先权 :
CN202122988983.2
主分类号 :
C25D1/04
IPC分类号 :
C25D1/04  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D1/00
电铸
C25D1/04
丝;带;箔
法律状态
2022-04-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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