一种蒸发台坩埚用导磁条
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摘要

本实用新型公开了一种蒸发台坩埚用导磁条,包括蒸发台坩埚,所述蒸发台坩埚的坩埚口两侧设置有导磁条安装框架,其中两侧的导磁条安装框架内部均滑动连接有用于集中电子束的导磁条本体,本实用新型通过导磁条安装框架的设置,使导磁条本体在蒸发台坩埚上的位置能够实现横向和纵向上的调整,使导磁条本体在蒸发台坩埚上的位置更加灵活,适用性强,同时将导磁条本体设置成L型结构,并将两个导磁条本体为一组设置在坩埚口的两侧,当电子束从坩埚口偏转出来,L型的导磁条本体将进一步集中电子束的能量,缩小电子束斑的长度,能够减小熔池大小,降低蒸发时的功率,从而提升了坩埚的使用寿命。

基本信息
专利标题 :
一种蒸发台坩埚用导磁条
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123080423.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-09
授权号 :
CN216473451U
授权日 :
2022-05-10
发明人 :
袁圣雨安旭辉姚伟吴棋钢张平
申请人 :
富芯微电子有限公司
申请人地址 :
安徽省合肥市高新区香蒲路503号
代理机构 :
北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
胡阔雷
优先权 :
CN202123080423.3
主分类号 :
C23C14/30
IPC分类号 :
C23C14/30  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
C23C14/30
电子轰击法
法律状态
2022-05-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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