一种蒸发均匀的组合坩埚
授权
摘要
本实用新型涉及一种蒸发均匀的组合坩埚，属于材料热蒸发技术领域，装置包括喷嘴、陶瓷坩埚、金属坩埚；陶瓷坩埚为顶端开口的圆筒状腔体，陶瓷坩埚顶部设有外翻沿台，喷嘴边缘置于外翻沿台上侧，喷嘴位于陶瓷坩埚腔体上侧内部；金属坩埚为顶端开口的圆筒状腔体，陶瓷坩埚的腔体外径小于金属坩埚的腔体内径，陶瓷坩埚套于金属坩埚内，金属坩埚侧壁设有镂空部。将陶瓷坩埚放置到金属坩埚内可以有效降低蒸发料的热损耗，使蒸发料温度整体上更加均匀，提高蒸发料蒸发稳定性。金属坩埚采用上空下实的镂空设计，有利于陶瓷坩埚在镂空的位置接受更多的热量，利于蒸发料蒸发不易凝固。
基本信息
专利标题 ：
一种蒸发均匀的组合坩埚
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922298275.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-19
授权号 ：
CN211170852U
授权日 ：
2020-08-04
发明人 ：
刘汝强王殿春孙蕾
申请人 ：
山东国晶新材料有限公司
申请人地址 ：
山东省德州市禹城市南环东路88号
代理机构 ：
济南金迪知识产权代理有限公司
代理人 ：
王楠
优先权 ：
CN201922298275.9
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-08-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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