一种点蒸发源坩埚、蒸镀机及OLED器件
授权
摘要
本实用新型涉及蒸镀制程技术领域，尤其涉及一种点蒸发源坩埚、蒸镀机及OLED器件。该点蒸发源坩埚包括坩埚、第一喷嘴以及第二喷嘴，坩埚用于盛放待蒸镀物，第一喷嘴设置在坩埚上，第一喷嘴的内腔与坩埚相连通，第一喷嘴用于蒸镀基板的第一区域，第一区域由基板的几何中心延伸至外边缘，基板围绕其几何中心水平旋转，第二喷嘴设置在坩埚上，第二喷嘴的内腔与坩埚相连通，第二喷嘴用于蒸镀基板的第二区域，第二区域为第一区域的边缘部。蒸镀机通过应用上述点蒸发源坩埚，提高了点蒸发源蒸镀的均一性，改善了基板上膜层厚度的一致性。OLED器件通过应用上述蒸镀机进行蒸镀，提高了OLED器件色坐标良率，提高了OLED器件的质量。
基本信息
专利标题 ：
一种点蒸发源坩埚、蒸镀机及OLED器件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123415815.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-31
授权号 ：
CN216663214U
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
王卫卫周文斌冯峰沈倩张峰孙剑高裕弟
申请人 ：
昆山梦显电子科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市晨丰路188号
代理机构 ：
北京远智汇知识产权代理有限公司
代理人 ：
康亚健
优先权 ：
CN202123415815.0
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/12 H01L51/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-06-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
