一种坩埚蒸发装置
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种坩埚蒸发装置，包括容置槽以及坩埚，若干坩埚平行交错排列设置于容置槽内，坩埚的外壁均匀绕设有加热源，加热源与电源连接。其有益效果在于，通过在坩埚外壁均匀缠绕加热源，使得金属蒸镀材料均匀受热，在真空环境下，金属蒸镀材料原子或分子会沿着直线前进，向上附着在经过坩埚上部的基材，从而基材上镀成厚度均匀的薄膜。
基本信息
专利标题 ：
一种坩埚蒸发装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020904066.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-26
授权号 ：
CN212247190U
授权日 ：
2020-12-29
发明人 ：
臧世伟刘文卿
申请人 ：
重庆金美新材料科技有限公司
申请人地址 ：
重庆市綦江区古南街道陵园路28号
代理机构 ：
深圳市远航专利商标事务所(普通合伙)
代理人 ：
张朝阳
优先权 ：
CN202020904066.4
主分类号 ：
C23C14/26
IPC分类号 ：
C23C14/26
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/26
电阻加热蒸发源法或感应加热蒸发源法
法律状态
2022-05-17 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 14/26
申请日 : 20200526
授权公告日 : 20201229
终止日期 : 20210526
申请日 : 20200526
授权公告日 : 20201229
终止日期 : 20210526
2020-12-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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