一种集成电路生产用具有托板清理结构的蚀刻机
授权
摘要

本实用新型公开了一种集成电路生产用具有托板清理结构的蚀刻机,包括:底座,所述底座的顶端安装有蚀刻箱,且蚀刻箱的正面安装有箱门,并且蚀刻箱的一侧设置有控制台,而且蚀刻箱的内部设置有蚀刻托板;驱动电机,安装在所述蚀刻箱的背面,且驱动电机的输出端与蚀刻箱内部的螺纹杆进行连接,并且蚀刻箱的内部远离螺纹杆的一侧设置有导向杆。该集成电路生产用具有托板清理结构的蚀刻机,启动驱动电机,驱动电机带动螺纹杆同步导板移动,导板底部的清洁刷即可对蚀刻托板表面进行清理,即可使该蚀刻机具有托板清理结构,清理的杂质会通过收集通道清理到收集盒的内部,将转动块旋转,使转动块与定位孔持平,然后向外抽出收集盒即可倾倒处理杂质。

基本信息
专利标题 :
一种集成电路生产用具有托板清理结构的蚀刻机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123130554.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-14
授权号 :
CN216473566U
授权日 :
2022-05-10
发明人 :
谢宏兴
申请人 :
深圳市比邻芯科技有限责任公司
申请人地址 :
广东省深圳市龙华区龙华街道松和社区梅龙大道1040号共和和丰大厦B1806
代理机构 :
深圳众邦专利代理有限公司
代理人 :
王金刚
优先权 :
CN202123130554.8
主分类号 :
C25F3/02
IPC分类号 :
C25F3/02  C25F7/00  B08B1/00  H05K3/07  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法;其所用的设备
C25F3/00
电解浸蚀或抛光
C25F3/02
浸蚀
法律状态
2022-05-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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