一种表面电化学抛光装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种表面电化学抛光装置，包括抛光箱，所述抛光箱的内部固定开设有抛光槽，所述抛光箱位于抛光槽上方的两侧内面上均固定开设有两个转动槽；本实用新型的驱动电机通过转动滚轮带动固定架在抛光槽的正上方做圆周运动，固定架上悬挂的待抛光的工件能够在抛光槽中移动并进行抛光，工件在移动的过程中能够和抛光液的接触更加充分，有助于对其不规则处进行抛光，使得工件外观的抛光更加均匀且彻底，悬挂杆能够将待抛光的工件悬挂在其底部，并能够卡和在两个U型夹块之间，两个U型夹块内部的弹簧伸缩杆能够对悬挂杆进行推力挤压，使其在固定架移动的过程中也能够稳定在固定架上，有助于抛光过程的稳定性。
基本信息
专利标题 ：
一种表面电化学抛光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123136562.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-13
授权号 ：
CN216514241U
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
韦金雄刘其明许清豪
申请人 ：
吉安首顾表面处理有限公司
申请人地址 ：
江西省吉安市吉水县城西工业园区电镀集控区
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202123136562.3
主分类号 ：
C25F3/16
IPC分类号 ：
C25F3/16 C25F7/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法；其所用的设备
C25F3/00
电解浸蚀或抛光
C25F3/16
抛光
法律状态
2022-05-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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