等离子发生装置
授权
摘要
本申请提供一种等离子发生装置，包括进气口(10)、出气口(20)和位于所述进气口(10)和所述出气口(20)之间的等离子放电部(30)，所述等离子发生装置还包括设置在所述进气口(10)和所述出气口(20)之间的匀气部(40)，所述匀气部(40)形成有供气流通过的匀气腔(41)，气体在所述匀气腔(41)内的任意两个流动路径的长度的差值不大于气体在所述匀气腔(41)内的任意一个流动路径的长度的15％。根据本申请的等离子发生装置结构简单，且制备物浓度高，能量损耗小。
基本信息
专利标题 ：
等离子发生装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123244647.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-22
授权号 ：
CN216673374U
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
王兴南张恩甫
申请人 ：
上海雷氧企业发展有限公司
申请人地址 ：
上海市闵行区龙茗路98号12号楼
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN202123244647.3
主分类号 ：
H05H1/24
IPC分类号 ：
H05H1/24
法律状态
2022-06-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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