铜带压平机双面清洁抛光装置
授权
摘要
本实用新型涉及铜带生产技术领域，尤其涉及铜带压平机双面清洁抛光装置。包括所述电机固定设置在固定架上，用于驱动抛光带转动，所述抛光带和铜带相互垂直，主动辊、从动辊和两水平轴之间对应通过抛光带连接传动，当电机转动时会带动抛光带一起转动，抛光带和铜带垂直运动，通过抛光带在铜带上下表面相对运动对铜带进行清理抛光，使得生产出来的钢带表面比较清洁光润；通过从动辊可调解抛光带的张紧程度，通过水平辊可调解铜带的抛光清理厚度。
基本信息
专利标题 ：
铜带压平机双面清洁抛光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123372527.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-30
授权号 ：
CN216542545U
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
高立峰武立星刘丛
申请人 ：
宁晋县诚宏铜业有限公司
申请人地址 ：
河北省邢台市宁晋县大陆村镇大陆村一村
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202123372527.1
主分类号 ：
B24B21/04
IPC分类号 ：
B24B21/04 B24B21/00 B24B21/18 B24B47/00 B24B21/20 B24B47/22 B21D1/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B21/00
使用磨削或抛光带的机床或装置；以及附件
B24B21/04
用于磨削平面
法律状态
2022-05-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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