一种石英晶片热应力处理设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种石英晶片热应力处理设备，属于石英晶片技术领域，包括退火炉，所述退火炉的顶面设置有降温组件，所述退火炉的顶面设置有吊装组件，所述退火炉的内部底面固定连接有限位条，所述限位条的上方设置有放置板，所述放置板的顶面固定连接有放置台，所述放置板的前表面固定连接有拉环，所述放置板的顶面设置有夹持组件；通过设置降温组件，通过启动吹风机，吹风机抽取外界温度较低的空气，并通过第一风管、第二风管与吹风管的输送，进入到退火炉的内部，使得退火炉内部的温度快速下降，等温度下降到合适的温度之后，便可将放置板从退火炉的内部抽出，将石英晶体取下，从而实现了对退火炉内部温度进行快速降低的目的。
基本信息
专利标题 ：
一种石英晶片热应力处理设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123378267.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-29
授权号 ：
CN216585320U
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
罗吉如
申请人 ：
深圳市晶迅捷科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区航城街道黄麻布社区簕竹角鸿业工业园7栋厂房一层
代理机构 ：
青海中赢知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
莫文新
优先权 ：
CN202123378267.9
主分类号 ：
C30B33/02
IPC分类号 ：
C30B33/02 C30B29/18
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼；具有一定结构的均匀多晶材料的制备；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理；其所用的装置
C30B33/00
单晶或具有一定结构的均匀多晶材料的后处理
C30B33/02
热处理
法律状态
2022-05-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
