一种用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置及其工...
实质审查的生效
摘要
本申请涉及电镀领域,更具体地涉及一种用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置及其工作方法,所述用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置包括一自旋装置,所述自旋装置被用于安装一长管产品,其中所述自旋装置包括一第一连接件,所述第一连接件的顶部具有一进水口,且所述第一连接件的侧壁具有一出水口,且所述第一连接件具有一进水管和一出水管;一管体;一第二转动件,所述第二转动件具有一通孔,所述长管产品与所述通孔背离所述管体的一端可拆卸连接;以及一冷却装置,所述进水口和所述出水口均与所述冷却装置相连。本发明通过有效地利用其自身的结构配置实现能镀膜长管产品、结构简单、使用便捷的优势。
基本信息
专利标题 :
一种用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置及其工作方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114525484A
申请号 :
CN202210007574.6
公开(公告)日 :
2022-05-24
申请日 :
2022-01-05
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
马洋张星翔宋辉张颖陆晓峰康强邬健培
申请人 :
宁波云涂科技有限公司
申请人地址 :
浙江省宁波市鄞州区姜山镇雁湖路721号
代理机构 :
宁波协众智库专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
李素红
优先权 :
CN202210007574.6
主分类号 :
C23C14/35
IPC分类号 :
C23C14/35 C23C14/50 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的,例如磁控溅射
法律状态
2022-06-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/35
申请日 : 20220105
申请日 : 20220105
2022-05-24 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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