沉积装置
授权
摘要
本发明涉及一种沉积装置，其能够使材料均匀地沉积至基板上。根据本发明的实施例的沉积装置具备：多个阴极，位于腔室内；托盘，位于所述阴极的一侧，用于固定基板；阳极，与所述阴极相邻而布置，以预定角度进行旋转的同时向所述基板侧供应氧气。
基本信息
专利标题 ：
沉积装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN107916403A
申请号 ：
CN201710907176.9
公开（公告）日 ：
2018-04-17
申请日 ：
2017-09-29
授权号 ：
CN107916403B
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
孙尚佑深沢孝之申相原
申请人 ：
三星显示有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道龙仁市
代理机构 ：
北京铭硕知识产权代理有限公司
代理人 ：
孙昌浩
优先权 ：
CN201710907176.9
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C23C14/54
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2022-05-03 ：
授权
2019-11-05 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/34
申请日 : 20170929
申请日 : 20170929
2018-04-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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