垂直少层MoS2纳米片的无模板法制...
实质审查的生效
摘要

本发明提供一种垂直生长的少层MoS2纳米片的无模板制备方法,其特征为以非晶晶化和离心分离法制备出分散性、尺寸和层数可控的垂直少层MoS2纳米片。其具体制备方法是:在室温下将适量给定浓度的酸溶液以一定的滴加速率滴加至适量含硫化合物与钼盐的混合溶液中,得到黑色沉淀。在惰性气氛中将得到的沉淀进行煅烧,并超声分散于合适溶剂中后进行离心分级。通过调控滴加速率、反应时间和不同转数的离心分级处理可获得不同分散程度的少层垂直MoS2纳米片和类花状MoS2垂直纳米片团簇。本发明具有操作简便、重复性好的优点,通过调控反应和处理条件可制备出尺寸、层数以及分散性各异的垂直少层MoS2纳米片,对相关光电功能材料及催化材料的研究和应用具有重要意义。

基本信息
专利标题 :
垂直少层MoS2纳米片的无模板法制备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114261989A
申请号 :
CN202210013416.1
公开(公告)日 :
2022-04-01
申请日 :
2022-01-06
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
刘建军王艺蒙于迎春左胜利
申请人 :
北京化工大学
申请人地址 :
北京市朝阳区北三环东路15号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202210013416.1
主分类号 :
C01G39/06
IPC分类号 :
C01G39/06  B82Y40/00  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C01
无机化学
C01G
含有不包含在C01D或C01F小类中之金属的化合物
C01G39/00
钼的化合物
C01G39/06
硫化物
法律状态
2022-04-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C01G 39/06
申请日 : 20220106
2022-04-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332