一种活性金属钎焊陶瓷基板及其制作方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种活性金属钎焊陶瓷基板及其制作方法,属于陶瓷金属化处理领域。本发明方法为:在金属片上以不完全蚀刻的方式加工线路图形;而后将活性金属焊料整体印刷在线路图形上并进行烘干;然后将金属片进行表面处理;再将清洗后的陶瓷片安装在金属片的固定槽内,再对金属片进行对折得到组装件;之后将N件组装件叠压在一起并进行烧结,使得金属片与陶瓷片烧结在一起;其中,N≥1;而后去除组装件残余的金属形成活性金属钎焊陶瓷基板。针对现有技术中的AMB基板制作过程易造成化学污染且蚀刻困难的问题,本发明的制作工艺省略了蚀刻液和活性金属焊料的使用,不仅避免了环境污染问题,还大大降低了生产成本。

基本信息
专利标题 :
一种活性金属钎焊陶瓷基板及其制作方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114373685A
申请号 :
CN202210015854.1
公开(公告)日 :
2022-04-19
申请日 :
2022-01-07
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
井敏
申请人 :
井敏
申请人地址 :
安徽省宿州市灵璧县渔沟镇
代理机构 :
江苏瑞途律师事务所
代理人 :
金龙
优先权 :
CN202210015854.1
主分类号 :
H01L21/48
IPC分类号 :
H01L21/48  H01L23/498  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21/04
至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件,例如PN结、耗尽层、载体集结层
H01L21/48
应用H01L21/06至H01L21/326中的单一小组都不包含的方法,在器件组装之前制造或处理部件,例如容器
法律状态
2022-05-06 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/48
申请日 : 20220107
2022-04-19 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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