一种微区X射线光谱分析系统
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种微区X射线光谱分析系统，包括：X射线光束会聚模块、样品探测模块、计算机；所述X射线光束会聚模块用于获得聚焦的X射线微焦斑；所述X射线微焦斑包括多色微区X射线微焦斑和单色微区X射线微焦斑；所述样品探测模块用于探测样品被所述X射线微焦斑激发后所产生的特征信号；所述计算机用于根据所述特征信号获得样品表面相关信息。本发明提出的微区X射线光谱分析装置采用组合透镜的方式，通过毛细管透镜与平晶的组合，可以根据需求产生多色或单色聚焦X射线微束，扩展了其应用范围。
基本信息
专利标题 ：
一种微区X射线光谱分析系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114354661A
申请号 ：
CN202210028810.2
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2022-01-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
孙学鹏孙天希李成波
申请人 ：
北京师范大学
申请人地址 ：
北京市海淀区新外大街19号
代理机构 ：
北京众合诚成知识产权代理有限公司
代理人 ：
刘妮
优先权 ：
CN202210028810.2
主分类号 ：
G01N23/04
IPC分类号 ：
G01N23/04 G01N23/083 G01N23/2206 G01N23/223
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/02
通过使辐射透过材料
G01N23/04
并形成材料的图片
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 23/04
申请日 : 20220111
申请日 : 20220111
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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