超薄PET膜表面非晶四面体碳结构的涂层工艺
实质审查的生效
摘要
本申请公开了一种超薄PET膜表面非晶四面体碳结构的涂层工艺，其特征在于，包括以下步骤：(1)提供基材，在使用时，对PET薄膜进行预处理，随后放入磁控溅射镀膜机内；(2)采用离子化物理气相沉积工艺(IPVD)对靶材进行溅射，沉降过程中施加一个方向控制电场，使得碳层晶粒沉积方向一致；(3)基材层的上方增设一个筛选磁场，使最后从筛选出来的碳离子以相同的速度落入到基材上；(4)溅射完成后，自然冷却至室温后取出镀膜后的产品。本申请对溅射镀膜中沉积离子进行筛选和速度处理，保证落入到基材上的离子处于纯净的状态，保证基材镀膜的质量，同时基材可进行平面内的移动，保证离子沉积的均匀性。
基本信息
专利标题 ：
超薄PET膜表面非晶四面体碳结构的涂层工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114540761A
申请号 ：
CN202210030407.3
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2022-01-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘春雨
申请人 ：
苏州市彩衣真空科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市相城区北桥镇希望工业园
代理机构 ：
北京知果之信知识产权代理有限公司
代理人 ：
高科
优先权 ：
CN202210030407.3
主分类号 ：
C23C14/06
IPC分类号 ：
C23C14/06 C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/06
申请日 : 20220112
申请日 : 20220112
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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