一种基于DMD数字光刻的曲面复眼透镜及其制备方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种基于DMD数字光刻的曲面复眼透镜及其制备方法,该曲面复眼透镜为半球形结构,半球形结构由内至外依次包括半球型曲面焦面、弹力膜以及曲面微透镜阵列,所有级次子眼构成曲面微透镜阵列,所有级次子眼包括位于曲面微透镜阵列中心的一级子眼以及以一级子眼为圆心设置的多圈n级子眼,其中n为大于等于2的整数。半球型曲面焦面向弹力膜的一面均匀设置有若干个与子眼一一对应的感光传感器。本发明通过数字微反射镜DMD数字光刻对微透镜结构进行三维光刻,仅需要进行一次倒模即可获得微透镜阵列。子眼的口径、矢高以及曲面复眼透镜的曲率半径可控,制造的微透镜尺寸和面形精度高以及表面均匀性好,且制备工艺简单,成本低。

基本信息
专利标题 :
一种基于DMD数字光刻的曲面复眼透镜及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114355489A
申请号 :
CN202210035089.X
公开(公告)日 :
2022-04-15
申请日 :
2022-01-13
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
蒋文波王画然
申请人 :
西华大学
申请人地址 :
四川省成都市金牛区土桥金周路999号
代理机构 :
北京正华智诚专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
代维凡
优先权 :
CN202210035089.X
主分类号 :
G02B3/00
IPC分类号 :
G02B3/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B3/00
简单或复合透镜
法律状态
2022-05-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 3/00
申请日 : 20220113
2022-04-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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