一种DFB激光器光学膜的制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种DFB激光器光学膜的制备方法，属于光通信芯片光学薄膜技术领域。该方法步骤如下：将DFB激光器置于化学气相沉积设备内的工艺腔内，通过低温低压、化学气相沉积制备DFB激光器光学膜；首先，在DFB激光器背光面沉积SiO2/Si层叠结构及一层SiO2，得到DFB激光器高反膜；其次，在DFB激光器出光面沉积一层SiO2/Si层叠结构及一层SiO2，得到DFB激光器增透膜，DFB激光器光学膜制备完成。采用本发明公开的方法制备的光学膜剖面膜层致密、表面光滑平整、透射性好、压应力小、厚度均匀性好，且工艺时间短、制备方法简单易行。
基本信息
专利标题 ：
一种DFB激光器光学膜的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114465086A
申请号 ：
CN202210058678.X
公开（公告）日 ：
2022-05-10
申请日 ：
2022-01-19
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李志峰黄永光王宝军张瑞康
申请人 ：
河南仕佳光子科技股份有限公司
申请人地址 ：
河南省鹤壁市淇滨区国家经济技术开发区延河路201号
代理机构 ：
郑州优盾知识产权代理有限公司
代理人 ：
孙诗雨
优先权 ：
CN202210058678.X
主分类号 ：
H01S5/028
IPC分类号 ：
H01S5/028 H01S5/12
法律状态
2022-05-27 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01S 5/028
申请日 : 20220119
申请日 : 20220119
2022-05-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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