多层膜劳厄透镜及其设计方法
实质审查的生效
摘要

本申请公开了一种多层膜劳厄透镜及其设计方法,透镜包括基底层和设置在所述基底层上的衍射结构,所述衍射结构包括叠层设置的多个周期,每个所述周期均包括叠置的吸收层和间隔层,所述周期从靠近所述基底层向远离所述基底层的方向,厚度逐渐减小;每个所述吸收层和所述间隔层的截面深度为最佳截面深度*(1‑修形参数Q),其中,Q为0.4‑1之间的任意值。根据本申请实施例提供的技术方案,通过对多层膜劳厄透镜进行修形,通过修形来实现对在制备透镜过程中产生的结构误差的补偿,不需要其他辅助光学元件的情况下,缩小其与理想的多层膜劳厄透镜出射面电场之间的差异,从而改善实际制备所得的多层膜劳厄透镜的聚焦性能。

基本信息
专利标题 :
多层膜劳厄透镜及其设计方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114496337A
申请号 :
CN202210063039.2
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-01-19
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
冀斌常广才岳帅鹏杨一鸣周亮
申请人 :
中国科学院高能物理研究所
申请人地址 :
北京市石景山区玉泉路19号(乙)院
代理机构 :
北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
刘进
优先权 :
CN202210063039.2
主分类号 :
G21K1/06
IPC分类号 :
G21K1/06  G02B5/18  G02B27/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理;核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术;照射装置;γ射线或X射线显微镜
G21K1/00
粒子或电离辐射的处理装置,如聚焦或慢化
G21K1/06
应用衍射、折射或反射,如单色仪
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G21K 1/06
申请日 : 20220119
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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