一种复合透明导电薄膜及其氨基酸锚定法制备工艺与应用
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种复合透明导电薄膜及其氨基酸锚定法制备工艺与应用。复合导电薄膜具有“氨基酸/金属/抗反射层”三层结构,以氨基酸为金属薄膜生长的诱导层,高折射率材料为抗反射层,制备过程包括以下步骤:清洗衬底并做亲水性处理;在基底上涂覆氨基酸溶液制备诱导层,经过热退火工艺使溶剂充分挥发;真空蒸镀沉积金属薄膜,然后沉积抗反射层材料,获得复合透明导电薄膜。本发明提出的复合透明导电薄膜及其制备方法,具有制备工艺简单,成本低的特点,适用于多种衬底材料,采用此方法,获得的复合透明导电薄膜具有超高透光率、低方阻的光电特性,并且具有极强的抗弯折形变性和抗氧化性。在大面积光电子器件的应用中具有重要的前景和价值。
基本信息
专利标题 :
一种复合透明导电薄膜及其氨基酸锚定法制备工艺与应用
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114411089A
申请号 :
CN202210071813.4
公开(公告)日 :
2022-04-29
申请日 :
2022-01-21
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
张新稳张亚琪陈月花
申请人 :
南京邮电大学
申请人地址 :
江苏省南京市亚东新城区文苑路9号
代理机构 :
南京经纬专利商标代理有限公司
代理人 :
殷星
优先权 :
CN202210071813.4
主分类号 :
C23C14/02
IPC分类号 :
C23C14/02 C23C14/08 C23C14/12 C23C14/18 C23C14/20 C23C14/24 H01B5/14 H01B13/00
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/02
待镀材料的预处理
法律状态
2022-05-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/02
申请日 : 20220121
申请日 : 20220121
2022-04-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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