一种套刻标记筛选的方法、装置、设备、存储介质及程序产品
公开
摘要
本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种套刻标记筛选的方法，输入多组套刻标记的标记参数；计算模型根据标记参数进行计算得到每组套刻标记的可制造性信息、匹配性信息、可探测性信息及准确性信息中的一种或多种；将每组套刻标记的对应的可制造性信息、匹配性信息、可探测性信息及准确性信息中的一种或多种分别与预设的标准进行比较，得到并输出匹配标准的套刻标记。本发明提供的一种套刻标记筛选的方法解决了目前对套刻标记的筛选方法不够合理，在实际应用中不够实用的技术问题。
基本信息
专利标题 ：
一种套刻标记筛选的方法、装置、设备、存储介质及程序产品
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114563927A
申请号 ：
CN202210085551.7
公开（公告）日 ：
2022-05-31
申请日 ：
2022-01-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
丁洪贞
申请人 ：
东方晶源微电子科技(北京)有限公司
申请人地址 ：
北京市大兴区北京经济技术开发区经海四路156号院12号楼
代理机构 ：
深圳市智享知识产权代理有限公司
代理人 ：
王琴
优先权 ：
CN202210085551.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F9/00 G06F30/392 G06F30/398 G06F119/18
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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