一种扣除背景辐射影响的温度与发射率测量方法及装置
公开
摘要
一种扣除背景辐射影响的温度与发射率测量方法和装置，本发明利用二维转台驱动多通道红外辐射计进行观测方位角在0~360°范围，观测天顶角在0~90°范围下，多个测量点大气下行辐射测量，有效表征了大气下行辐射在反演地表温度和发射率的影响，提高反演精度；基于实验室多种材料的光谱发射率数据库分析，建立了多通道红外辐射计最小发射率与MMD之间的经验关系如公式，并以此为先验条件有效解决地表温度与发射率的耦合作用影响，实现地表温度与发射率高精度分离；采用上位机软件控制装置运行工作，数据采集、存储和处理等，操作简单高效。
基本信息
专利标题 ：
一种扣除背景辐射影响的温度与发射率测量方法及装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114623931A
申请号 ：
CN202210087938.6
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2022-01-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张允祥李新张艳娜韦玮潘琰
申请人 ：
中国科学院合肥物质科学研究院
申请人地址 ：
安徽省合肥市蜀山区蜀山湖路350号光学遥感中心
代理机构 ：
杭州杭诚专利事务所有限公司
代理人 ：
郑汝珍
优先权 ：
CN202210087938.6
主分类号 ：
G01J5/00
IPC分类号 ：
G01J5/00 G01J5/08
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法
G01J5/00
辐射高温测定法
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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