正射影像转换瓦片地图的方法及装置、电子设备、存储介质
实质审查的生效
摘要

本申请提供一种正射影像转换瓦片地图的方法及装置、电子设备、计算机可读存储介质,方法包括:根据正射影像文件在目标坐标系的覆盖区域,确定与所述正射影像文件对应的多个目标瓦片;根据预设指定尺寸值对所述正射影像文件进行切分,获得多个子文件;通过多个工作线程确定所述多个子文件中每一子文件的覆盖区域,以及与每一覆盖区域匹配的目标瓦片;通过所述多个工作线程对每一子文件进行重采样,并将重采样的像素值,填入所述子文件的覆盖区域所匹配的目标瓦片。本申请方案,极大地提升了CPU使用率和IO速率,解决对大体量文件进行转换时可能产生的错误,快速对大体量文件进行了转换。

基本信息
专利标题 :
正射影像转换瓦片地图的方法及装置、电子设备、存储介质
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114494628A
申请号 :
CN202210093616.2
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-01-26
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
高阳徐远宏
申请人 :
上海秉匠信息科技有限公司
申请人地址 :
上海市闵行区宜山路1698号兴迪商务大厦1503室
代理机构 :
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
徐叶馨
优先权 :
CN202210093616.2
主分类号 :
G06T17/05
IPC分类号 :
G06T17/05  G06F16/29  G06T11/60  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T17/00
用于计算机制图的3D建模
G06T17/05
地理模型
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06T 17/05
申请日 : 20220126
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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