一种光刻胶喷雾式涂胶薄膜厚度计算方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种光刻胶喷雾式涂胶薄膜厚度计算方法，包括以下步骤：测得损失量φ1，其中φ1为喷涂过程中的损失量，测得损失量φ2，其中φ2为风吹的损失量，测得损失量φ3，其中φ3为碰撞损失量，得到整个损失量公式：φ＝φ1+φ2+φ3，通过公式代入具体数值可计算出光刻胶涂胶薄膜厚度。本发明通过分析在涂胶过程中的各个损失量并得出最终产品涂胶厚度的情况，根据具体情况进行控制使得整批产品的良品率得到提升。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻胶喷雾式涂胶薄膜厚度计算方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114442435A
申请号 ：
CN202210111078.5
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2022-01-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
魏猛王阳李冬海罗宗祥
申请人 ：
芯达半导体设备（苏州）有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区金鸡湖大道88号人工智能产业园C2-202单元
代理机构 ：
成都华复知识产权代理有限公司
代理人 ：
任丽娜
优先权 ：
CN202210111078.5
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2022-05-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/16
申请日 : 20220124
申请日 : 20220124
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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