一种晶圆正面涂源装置，包括支撑架、转动机构、顶升机构、防护罩，矫正机构及刮涂机构；转动机构，其设于支撑架上，包括转动构件和固定构件，转动构件用于驱动固定构件进行转动，固定构件用于晶圆的放置固定；顶升机构设于转动机构上；防护罩设于支撑架上；矫正机构其设于防护罩上，当晶圆转动时，以使晶圆绕其几何中心进行转动；刮涂机构，其设于防护罩上，用于扩散源的涂盖操作。方便进行晶圆的涂源操作，在涂源时通过缓速涂布的方式进行涂布，从而当源液的粘稠度较低时，也方便进行源液的涂布操作，同时在涂布时能降低源液的浪费量，而在涂源时采用由内而外的刮涂方式，能将源液均匀地涂布在晶圆上，从而确保形成的扩散膜的平整性。