一种链式涂源装置及扩散系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种链式涂源装置，用于在硅片表面涂覆一层掺杂源，包括若干根用于传送硅片的传动轴、贯穿传动轴的沉积腔室、第一槽体及第二槽体；所述沉积腔室的顶部设置有喷头，所述沉积腔室的底部设置有负压风机；所述沉积腔室的两侧沿硅片行进方向设置有开口；所述第一槽体设置在第二槽体的内部，所述第二槽体的底部设置有多个超声波雾化器。本实用新型的链式涂源装置提高了掺杂源涂覆的均匀性；涂源过程不与硅片表面接触，降低了硅片划伤率；本实用新型的链式涂源装置配合链式退火装置，适合任何尺寸硅片，实现了链式扩散吸杂的大规模生产；本实用新型的链式涂源装置配合链式退火装置和激光掺杂装置，实现激光掺杂SE电池的制作。
基本信息
专利标题 ：
一种链式涂源装置及扩散系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122399104.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-09-30
授权号 ：
CN216213503U
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
王敏任常瑞潘浩谈璧璇
申请人 ：
常州时创能源股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市溧阳市溧城镇吴潭渡路8号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202122399104.2
主分类号 ：
H01L31/18
IPC分类号 ：
H01L31/18 B05B13/02 B05B12/12 B05B16/20
法律状态
2022-04-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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