一种硅片链式扩散氧化两用设备

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摘要

本实用新型公开了一种硅片链式扩散氧化两用设备，其特征在于，包括形成窑炉通道的窑炉主体(2)，窑炉通道内并排设置有多个横跨窑炉通道宽度方向的陶瓷棍棒(3)，窑炉主体(2)入口端的陶瓷棍棒(3)上方设置有磷酸喷涂设备(1)，从入口端到出口端依次将窑炉主体(2)设置为可变功能区(4)、高温扩散氧化区(5)和水循环冷却区(6)，在可变功能区(4)、高温扩散氧化区(5)、水循环冷却区(6)分别连通气体输送设备(8)，水循环冷却区(6)还连通水输送设备(9)。该设备可以用于扩散、氧化两种工艺，简化了生产设备，节约了生产成本。

基本信息

专利标题：

一种硅片链式扩散氧化两用设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202022067146.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-09-18

授权号：

CN212725343U

授权日：

2021-03-16

发明人：

崔水炜程建万肇勇吴章平

申请人：

苏州昊建自动化系统有限公司

申请人地址：

江苏省苏州市苏州相城经济技术开发区漕湖街道漕湖大道48号1号楼

代理机构：

无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

王春丽

优先权：

CN202022067146.1

主分类号：

H01L31/18

IPC分类号：

H01L31/18 F27B17/00