一种氧化扩散退火炉
授权
摘要
本实用新型提供一种氧化扩散退火炉，包括上机柜一以及下机柜，所述上机柜一由炉体机构、夹持机构、传动机构，与现有技术相比，本实用新型具有如下的有益效果：氧化、扩散、退火等工艺的机械机构模块化，不同工艺的零件尺寸、位置最大限度的标准化，选材普遍化，降低工艺结构在生产制造过程中的人工、采购成本；客户可根据需要任意置换，增大设备的利用率，体积小、可节省空间，尤其适用于实验室和科研项目，便于客户在更小的工作间内操作使用；机械结构外形和对接尺寸相同，可叠加，一台设备可具备二种工艺或一种工艺有二管，增加客户对各种不同工艺的需求。
基本信息
专利标题 ：
一种氧化扩散退火炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920668405.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-10
授权号 ：
CN209658142U
授权日 ：
2019-11-19
发明人 ：
刘洋
申请人 ：
青岛华旗科技有限公司
申请人地址 ：
山东省青岛市城阳区流亭街道双元路西
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201920668405.0
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L21/677 F27B17/00
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2019-11-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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