基于光刻分层制备限域图案的电化学增材制造方法和装置
公开
摘要
本发明涉及基于光刻分层制备限域图案的电化学增材制造方法和装置。该方法根据工件三维形状数据，获取分层切片信息；将光固化材料涂覆到工件表面形成绝缘掩膜，通过光刻使绝缘掩膜选区固化；光刻完成后，进给显影液到掩膜表面去除未曝光部分，得到限域图案；显影完成后，进给电化学沉积工作液，开始电化学沉积；当沉积的金属层平铺限域图案时停止电化学沉积；在电沉积过程中实时整平金属表面，或者当每层沉积完成后整平金属表面。光刻、显影、电化学沉积和整平过程交替循环进行，逐层完成金属三维结构工件沉积，用有机溶剂浸泡去除堆叠的掩膜。本发明利用光刻绝缘掩膜和电化学沉积的快速转换，实现了复杂三维结构金属零件的高精度快速制备。
基本信息
专利标题 ：
基于光刻分层制备限域图案的电化学增材制造方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114561672A
申请号 ：
CN202210151432.7
公开（公告）日 ：
2022-05-31
申请日 ：
2022-02-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张彦张杰邓信豪蔡康捷刘远港
申请人 ：
南京工业大学
申请人地址 ：
江苏省南京市江浦区浦珠南路30号
代理机构 ：
江苏圣典律师事务所
代理人 ：
胡建华
优先权 ：
CN202210151432.7
主分类号 ：
C25D1/00
IPC分类号 ：
C25D1/00 C25D1/10 B33Y10/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D1/00
电铸
法律状态
2022-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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