同位素分析基质消除仪及其分析方法
公开
摘要
本发明公开了同位素分析基质消除仪,包括样品通入管,所述样品通入管的一端连接有隔膜自吸泵,所述隔膜自吸泵的一端连接有反渗透膜过滤桶,所述反渗透膜过滤桶的一端连接有样品输出管,所述样品通入管上装有初级过滤装置;同位素分析基质消除仪的使用和分析方法,包括样品基质去除部分和仪器清洗部分两个环节。本发明的基质消除仪采用基于反渗透膜的基质去除技术,样品中除了水分子以外的其它元素、溶解或未溶解的气体、各种类型的胶质颗粒和悬浮质以及微生物均被去除,去除效率达99%以上,可以将同位素分析过程中的基质效应降到最低,几乎完全克服了样品基质的干扰问题,并且保证样品在处理过程中不发生同位素分馏。
基本信息
专利标题 :
同位素分析基质消除仪及其分析方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114608926A
申请号 :
CN202210172952.6
公开(公告)日 :
2022-06-10
申请日 :
2022-02-24
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
桂建业王珍母海东王晓玮吴光伟张永伟
申请人 :
中国地质科学院水文地质环境地质研究所
申请人地址 :
福建省厦门市思明区观远里23号西侧
代理机构 :
北京集智东方知识产权代理有限公司
代理人 :
吴倩
优先权 :
CN202210172952.6
主分类号 :
G01N1/34
IPC分类号 :
G01N1/34 G01N1/40 G01N21/31 B01D61/02 B01D36/00 B01D65/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N1/00
取样;制备测试用的样品
G01N1/28
测试用样品的制备
G01N1/34
纯化;清洗
法律状态
2022-06-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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