透明导电膜PVD腔体的加热控制方法、装置及存储介质
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种透明导电膜PVD腔体的加热控制方法、装置及存储介质。其中，透明导电膜PVD腔体的加热控制方法包括：接收启动指令以预设的加热参数启动加热器进行加热，并获取初始温度值，加热参数包括实时设定温度值；根据初始温度值和预设的主设定参数确定实时设定温度值，并获取当前温度上升率和当前温度值，主设定参数包括主设定温度值；根据当前温度上升率、当前温度值和主设定参数调节加热参数位于预设加热参数范围；若当前温度值超过主设定温度值与预设温度阈值的和值，控制加热器供电关闭或调节实时设定温度值。本发明根据当前温度上升率、当前温度值和主设定参数调节加热参数位于对应的预设加热范围，实现精准的温度控制和升温更加精确。
基本信息
专利标题 ：
透明导电膜PVD腔体的加热控制方法、装置及存储介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114481078A
申请号 ：
CN202210180699.9
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2022-02-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
余仲周涛
申请人 ：
深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市坪山区龙田街道竹坑社区金牛东路62号一层至六层
代理机构 ：
广州嘉权专利商标事务所有限公司
代理人 ：
洪铭福
优先权 ：
CN202210180699.9
主分类号 ：
C23C14/54
IPC分类号 ：
C23C14/54 C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/54
镀覆工艺的控制或调节
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/54
申请日 : 20220225
申请日 : 20220225
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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