一种荧光检测系统
实质审查的生效
摘要
本申请公开了一种荧光检测系统,涉及荧光检测领域。本申请所提供的荧光检测系统,包括:激发光源、透镜、用于放置样品的待检区域、荧光成像系统,还包括:平面反射装置;激发光源、透镜、平面反射装置、荧光成像系统、待检区域依次放置,且共光轴;平面反射装置关于光轴对称放置;待检区域接收平面反射装置反射的光来激发待检区域放置的样品产生荧光;荧光成像系统通过荧光对待检区域放置的样品进行荧光成像。该系统中,平面反射装置关于光轴对称放置,将激发光源发出的光束分为多束关于光轴对称分布的光路,并将光反射至待检区域,从而在待检区域形成均匀的光斑,解决了传统的离轴倾斜照明光照不均匀的问题,提高了荧光检测的准确性。
基本信息
专利标题 :
一种荧光检测系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114544575A
申请号 :
CN202210182976.X
公开(公告)日 :
2022-05-27
申请日 :
2022-02-25
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
张超黄宝福
申请人 :
威高(苏州)医疗器械研究院有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市高新区科灵路88号
代理机构 :
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 :
刘珂
优先权 :
CN202210182976.X
主分类号 :
G01N21/64
IPC分类号 :
G01N21/64 G01N21/01
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发,因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/63
光学激发的
G01N21/64
荧光;磷光
法律状态
2022-06-14 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/64
申请日 : 20220225
申请日 : 20220225
2022-05-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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