光学偏折检测方法、电子设备及光学偏折检测系统
公开
摘要
本发明公开了一种光学偏折检测方法，包括步骤如下：搭建一光学偏折检测系统模型；设置参考面，对参考面进行光线追迹得到其在第一成像平面上的第一光斑点分布；设置系统结构误差，和一自由曲面作为被测面；对被测面进行光线追迹得到其在第二成像平面上的第二光斑点分布；根据第一光斑点分布和第二光斑点分布计算得到光斑点分布偏差；根据光斑点分布偏差计算得到被测面的表面斜率；搭建神经网络模型，通过将被测元件的表面斜率输入至神经网络模型，得到被测元件的面形。本发明能在精确重构面形的同时消除了系统结构误差的影响，为面形检测提供了一种高效率、高精度、高稳定性的方法。本发明还提供了使用上述方法的电子设备及光学偏折检测系统。
基本信息
专利标题 ：
光学偏折检测方法、电子设备及光学偏折检测系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114593693A
申请号 ：
CN202210185461.5
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2022-02-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
沃林沃家
申请人 ：
苏州英示测量科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市高新区向阳路80号
代理机构 ：
苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
唐灵
优先权 ：
CN202210185461.5
主分类号 ：
G01B11/25
IPC分类号 ：
G01B11/25
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
G01B11/25
通过在物体上投影一个图形，例如莫尔条纹
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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