微透镜阵列及制备方法、压印模板和显示装置
公开
摘要
本发明公开了一种微透镜阵列及制备方法、压印模板和显示装置，该微透镜阵列包括衬底，所述衬底由玻璃或柔性材料形成；多个微透镜，多个所述微透镜阵列排布于所述衬底的一侧，形成所述微透镜的材料包括光刻胶，多个所述微透镜中的至少部分微透镜与和其相邻的所述微透镜之间密接。本发明采用弹性可拉伸的柔性材料形成衬底，进而可以在对衬底进行拉伸后在拉伸状态下的衬底上制备微透镜阵列，最后通过简单的衬底应力释放，即可获得密接型的微透镜阵列，从而实现低串扰、高光效的密接微透镜阵列基板的制作。
基本信息
专利标题 ：
微透镜阵列及制备方法、压印模板和显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114609704A
申请号 ：
CN202210186501.8
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2022-02-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
侯东飞张锋董立文崔钊刘文渠吕志军孟德天王利波宋梦亚姚琪
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
尚伟净
优先权 ：
CN202210186501.8
主分类号 ：
G02B3/00
IPC分类号 ：
G02B3/00 G03F7/00 G02B30/29
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B3/00
简单或复合透镜
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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