一种压印母版及其制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种压印母版及其制备方法，涉及微纳加工技术领域，包括：基底，在基底上设置有图案化结构，在图案化结构的刻蚀槽内的底壁和侧壁上设置有压印疏水膜层；压印疏水膜层的材质为含氟聚合物；图案化结构为硅基材质，且硅基材质中硅元素的质量分数为10％至100％；或，图案化结构为钼基材质，且钼基材质中钼元素的质量分数为10％至100％。从而能够使得图案化结构的每一个刻蚀槽内均对应形成致密的含氟聚合物，有效的避免了阴影效应导致的成膜质量较差的现象，同时，含氟气体的来源较为广泛，有效的降低制造压印母版的成本，便于后续压印成品的顺利脱模。
基本信息
专利标题 ：
一种压印母版及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114488686A
申请号 ：
CN202011159005.0
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2020-10-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
徐世敏程桂亮伍未名刘风雷
申请人 ：
浙江水晶光电科技股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省台州市椒江区星星电子产业区A5号（洪家后高桥村）
代理机构 ：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
张洋
优先权 ：
CN202011159005.0
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/00
申请日 : 20201026
申请日 : 20201026
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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