一种基于电子背散射衍射花样的晶面衍射衬度的成像方法
公开
摘要

本发明提供一种基于电子背散射衍射花样的晶面衍射衬度的成像方法,包括如下步骤:将待检样品表面抛光后置于扫描电镜的样品台上,样品台倾转60°‑70°,并设置电子背散射衍射分析的最佳工作距离;在经抛光的待检样品表面采集电子背散射衍射花样信号;将采集得到的衍射花样逐一导入至Matlab程序中,通过傅里叶变换、高斯低通滤波、反傅里叶变化降噪;通过霍夫变换识别菊池带中心线;逐一提取、线性叠加每一条衍射花样中心线所对应衍射花样中图像像素点,即晶面所对应的衍射花样上像素点灰度值;依据任意晶面可收集一组衍射花样上像素点灰度值,依据电子背散射衍射采集面分布图像x\y坐标,输出该晶面衍射衬度图像。

基本信息
专利标题 :
一种基于电子背散射衍射花样的晶面衍射衬度的成像方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114609167A
申请号 :
CN202210203357.4
公开(公告)日 :
2022-06-10
申请日 :
2022-03-02
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王墉哲曾毅张积梅林初城
申请人 :
中国科学院上海硅酸盐研究所
申请人地址 :
上海市长宁区定西路1295号
代理机构 :
上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
曹芳玲
优先权 :
CN202210203357.4
主分类号 :
G01N23/203
IPC分类号 :
G01N23/203  G01N23/20058  G01N23/207  G01N23/2251  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料,例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/20
利用材料辐射的衍射,例如,用于测试晶体结构;利用材料辐射的散射,例如测试非晶材料;利用材料辐射的反射
G01N23/203
测量背散射
法律状态
2022-06-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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