一种阴极荧光光谱与高衬度成像装置及其成像方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种阴极荧光光谱与高衬度成像装置及其成像方法。本发明包括扫描电子显微镜系统、阴极荧光探头、高衬度成像转接模块、分光模块、光谱探测器、光强度探测器、信号处理系统和计算机;本发明能够实现采集光谱谱图、角度分辨成像、单谱成像以及高衬度全谱成像四种功能;不仅能够在电子激发的阴极荧光进入光谱探测器和光强度探测器前进入阵列芯片探头用于近似无损的全谱成像,并且能够在阴极荧光从光导管出射到进入光谱探测器和光强度探测器前获得单谱成像,再者该阵列芯片探头能够获得电子束作用点的角度分辨成像;而且在获得近似无损的全谱成像的同时能够获得光谱谱图和单谱成像。
基本信息
专利标题 :
一种阴极荧光光谱与高衬度成像装置及其成像方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114486840A
申请号 :
CN202210209562.1
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-03-03
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王贺刘亚琪何超
申请人 :
北京金竟科技有限责任公司
申请人地址 :
北京市海淀区中关村北二条13号6幢四层418房间
代理机构 :
北京万象新悦知识产权代理有限公司
代理人 :
王岩
优先权 :
CN202210209562.1
主分类号 :
G01N21/64
IPC分类号 :
G01N21/64 G01N21/01 G01N23/2254
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发,因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/63
光学激发的
G01N21/64
荧光;磷光
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/64
申请日 : 20220303
申请日 : 20220303
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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