阵列基板的制备方法、阵列基板以及显示装置
公开
摘要
本发明提供了一种阵列基板的制备方法、阵列基板以及显示装置，阵列基板的制备方法包括：提供玻璃基板，其中，玻璃基板具有预设厚度，之后，在玻璃基板上制备图案化的金属膜层，最后，将玻璃基板从预设厚度减薄至目标厚度，本发明所提供的阵列基板的制备方法，由于会在较厚的玻璃基板上制备好图案化的金属膜层后，再将该玻璃基板减薄至目标厚度，避免了在沉积金属膜层的过程中，由于因完整的金属膜层会具有较大的应力，而导致出现玻璃基板翘曲的现象。
基本信息
专利标题 ：
阵列基板的制备方法、阵列基板以及显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114613898A
申请号 ：
CN202210217377.7
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2022-03-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
黄远科
申请人 ：
TCL华星光电技术有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号
代理机构 ：
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 ：
吕姝娟
优先权 ：
CN202210217377.7
主分类号 ：
H01L33/62
IPC分类号 ：
H01L33/62
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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