光调节结构、光调节结构的制备方法和显示面板
公开
摘要
本公开提供了一种光调节结构、光调节结构的制备方法和显示面板，涉及显示技术领域，用于提高显示面板的各颜色子像素的亮度均匀性。光调节结构包括基底层、多个滤光部、填充部以及遮光图案。多个滤光部位于基底层的一侧。多个滤光部间隔设置。填充部位于多个滤光部之间的间隙内和多个滤光部整体的周围。并且，填充部覆盖至少一个滤光部远离基底层一侧表面的边缘部分。遮光图案位于填充部远离基底层的一侧。本公开提供的光调节结构应用于显示面板。
基本信息
专利标题 ：
光调节结构、光调节结构的制备方法和显示面板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114613826A
申请号 ：
CN202210242990.4
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2022-03-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
侯鹏王青松
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京中博世达专利商标代理有限公司
代理人 ：
申健
优先权 ：
CN202210242990.4
主分类号 ：
H01L27/32
IPC分类号 ：
H01L27/32 H01L51/52 H01L51/56
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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